IPR Seminarreihe, Teil 1 / 4: Patent- und Gebrauchsmuster

Bei der Veranstaltung informieren und diskutieren mit Ihnen eingeladene Expert*innen über aktuelle und anwendungsnahe Themen im Bereich IPR (Intellectual Property Rights).

Programm:

- Begrüßung WISTO
- Umfrage Teilnehmer*innenInnen
- Kurzvortrag zu Schutzrechten
- Q&A zum Kurzvortrag
- Vortrag zu Patenten und Gebrauchsmustern (ca. 45 Minuten)
- Q&A zum Vortrag
- Networking über wonder.me

Vortragender: Dr. Ralf Hofmann, Patentanwälte Hofmann & Fechner

Zielgruppe: Mitarbeitende aus F&E Abteilungen, Techniker*innen, Start-ups, Gründer*innen

Eine kostenlose Anmeldung ist erforderlich.

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